LOADING
سیستم نوردهی عیان ساز
EVG®PHABLE™
چگونه این محصول را خریداری کنم؟
درخواست قیمت
درخواست مشاوره و مدارک فنی
پرسش
خدمات خرید VIP
شما می توانید از سرویس رایگان نمایشگاه استفاده نموده و درخواست خود را مستقیما به شرکت سازنده ارسال نمایید و پس از دریافت قیمت و با ورود اطلاعات به " ماشین محاسبه قیمت ریالی " از قیمت ریالی کالا بصورت تخمینی مطلع شوید . اگر مایلید مکاتبه با شرکت سازنده ، تبادل اطلاعات و دریافت قیمت ارزی و ریالی توسط کارشناسان این مجموعه انجام شود لطفا از این طریق اقدام فرمایید. استفاده از این سرویس مستلزم پرداخت هزینه است . برای دریافت اطلاعات بیشتر با تلفن 41995 تماس حاصل فرمایید.
ادامه
ادامه
در صورتی که قیمت ارزی محصول را در اختیار دارید پس از عضویت و ورود به سایت می توانید فرم مربوطه را تکمیل و به همراه تصویر پرفورمای شرکت سازنده ارسال نمایید تا کارشناسان ما در اسرع وقت نسبت به محاسبه هزینه های حمل و ترخیص و صدور پیش فاکتور ریالی اقدام نمایند. هزینه استفاده از این سرویس برای هر درخواست 25 یورو می باشد. صنایع معظم در صورت تمایل به استفاده از این خدمات می توانند بدون نیاز به عضویت و پرداخت هزینه درخواست خود را به همراه کپی پرفورمای شرکت سازنده به ایمیل enquiry@iranindustryexpo.com و یا فاکس 88206264 بنام شرکت مهندسی و بازرگانی مشگاد ارسال نمایند.
در صورت عقد قرار داد مبلغ دریافتی به حساب خریدار عودت می شود.
ادامه
افزودن به لیست علاقه مندی ها
سایر سازندگان این محصول
درخواست قیمت ریالی
اگر مجموعه شما جزو صنایع مادر و معظم در فیلد پالایشگاه ، پتروشیمی ، حفاری ، نیروگاه ، معادن و فلزات ، خودروسازی ، تولید مواد غذایی و دارویی و.... می باشد لطفا درخواست خود را بر روی سربرگ به فاکس 88206264 و یا ایمیل enquiry@iranindustryexpo.com بنام شرکت مهندسی و بازرگانی مشگاد ارسال فرمایید.
کارشناسان این مجموعه در اسرع وقت با شما تماس خواهند گرفت .
بازدیدکننده محترم، از اینکه سایت ایران اینداستری را برای منابع یابی انتخاب کرده اید، از شما سپاسگزاریم.
اطلاعاتی برای نماینده شرکت EV Group در ایران یافت نشد.
لطفا با انتخاب هر یک از بخش های فوق، درخواست خود را ارسال فرمایید تا توسط واحد بازرگانی ایران اینداستری اکسپو بررسی شود.
مشخصات فنی
EVG® PHABLE™ Innovative Patterning Principle
EVG® PHABLE™ exposure system is designed specifically for the manufacturing of photonic components. Leveraging EVG's expertise in photolithography, the EVG PHABLE system incorporates a unique, contactless, mask-based lithography approach that enables full-field, high-resolution and cost-efficient micro- and nanopatterning. The unique property of PHABLE is the down to 150 nm printing resolution of regular patterns in a single exposure step. Nonetheless, a mask-substrate separation gap of several tens of micrometers is kept while the image depth can be extended to cover the multiple micrometer thick resist without resolution deterioration. This very high aerial image aspect ratio allows printing of the same high-resolution patterns onto large and highly warped surfaces.
Features
Based on well-established photolithography infrastructure and supply chain
High throughput of more than 50 wafers per hour
Patterning of lines, hexagonal and square arrays
Simple and robust process control
Supporting 6" full field exposure
Very high depth of focus for accurate printing in thick resists
Insensitive to particles and total thickness variation
EVG® PHABLE™ exposure system is designed specifically for the manufacturing of photonic components. Leveraging EVG's expertise in photolithography, the EVG PHABLE system incorporates a unique, contactless, mask-based lithography approach that enables full-field, high-resolution and cost-efficient micro- and nanopatterning. The unique property of PHABLE is the down to 150 nm printing resolution of regular patterns in a single exposure step. Nonetheless, a mask-substrate separation gap of several tens of micrometers is kept while the image depth can be extended to cover the multiple micrometer thick resist without resolution deterioration. This very high aerial image aspect ratio allows printing of the same high-resolution patterns onto large and highly warped surfaces.
Features
Based on well-established photolithography infrastructure and supply chain
High throughput of more than 50 wafers per hour
Patterning of lines, hexagonal and square arrays
Simple and robust process control
Supporting 6" full field exposure
Very high depth of focus for accurate printing in thick resists
Insensitive to particles and total thickness variation